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二硼化钛靶材

时间：2025-05-31浏览数：86

二硼化钛靶材：高科技领域的"隐形冠军"

二硼化钛靶材凭借其**高硬度和优异的导电性能，成为现代工业领域不可或缺的关键材料。
这种陶瓷靶材的维氏硬度高达30GPa以上，仅次于金刚石和立方氮化硼，在较端环境下仍能保持稳定的物理特性。


在薄膜制备领域，二硼化钛靶材展现出*特优势。
通过磁控溅射工艺，它能制备出兼具高硬度和良好导电性的功能薄膜。
这种薄膜的电阻率可低至10-6Ω·cm量级，硬度达到30GPa，既满足了电子元件的导电需求，又能有效抵抗机械磨损。
半导体行业尤其青睐这种材料，因为它能显著提升电子器件的可靠性和使用寿命。


二硼化钛靶材的制备工艺颇具挑战性。
粉末冶金是较常用的方法，需要精确控制烧结温度和压力参数。
热压烧结工艺能在1800-2000℃的高温下，使材料达到95%以上的理论密度。
为获得更优性能，常采用热等静压技术，使材料致密度接近**。
这些精密工艺确保了靶材内部结构的均匀性，为后续镀膜质量提供了**。


在航空航天领域，二硼化钛薄膜能有效保护精密部件免受高温氧化和磨损；电子工业中，它被用作集成电路的导电保护层；机械制造业则利用其超硬特性延长工具寿命。
随着5G技术和新能源产业的发展，这种材料的应用前景将更加广阔。


二硼化钛靶材代表了现代材料科学的重要突破，它的发展将持续推动多个工业领域的技术进步。
未来，通过工艺优化和复合改性，这种材料的性能和应用范围还将得到进一步拓展。


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