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半导体材料新宠:硒化铋的*特魅力
硒化铋靶材在半导体领域正掀起一股研究热潮。
这种由硒和铋两种元素组成的化合物,因其特殊的晶体结构和物理性质,成为制备热电薄膜的可以选择材料。
在室温下,硒化铋呈现六方晶系结构,这种结构赋予了它显著的各向异性特征。
热电性能是硒化铋较引人注目的特点。
当温度梯度存在时,它能够有效地将热能转化为电能,这种特性被称为塞贝克效应。
同时,硒化铋还具有良好的导电性和较低的导热率,这正是优质热电材料所需的关键指标。
研究人员通过调控硒化铋的化学计量比,可以进一步优化这些性能参数。
在制备工艺方面,硒化铋靶材主要通过粉末冶金法制得。
高纯度的硒和铋粉末按特定比例混合后,经过球磨、压制成型和烧结等工序,较终形成致密的靶材。
磁控溅射是较常用的薄膜沉积技术,通过调节溅射功率、气压和基底温度等参数,可以获得不同取向和性能的硒化铋薄膜。
尽管硒化铋靶材具有诸多优势,但也存在一些局限性。
在高温环境下,硒元素容易挥发,导致材料性能不稳定。
此外,硒化铋的机械强度相对较低,这给某些应用场景带来了挑战。
研究人员正在探索元素掺杂和纳米结构设计等方法来克服这些缺点。
随着微型电子器件和可穿戴设备的发展,对高效热电材料的需求日益增长。
硒化铋靶材凭借其优异的性能,在温度传感、废热回收等领域展现出广阔的应用前景。
未来,通过持续优化制备工艺和材料性能,硒化铋有望在能源转换领域发挥更大作用。
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