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可以根据客户要求提供平面圆靶，方靶，台阶靶、旋转靶均可加工、颗粒、网、箔、粉末、坩埚、异形件定制。鼎伟新材料提供镀膜靶材：铜、铝、铬、钨、钼、镍、铪、钽、铌、锆 AZO ITO 石墨 陶瓷..
高纯铬靶的目标杂质控制：如果靶中的夹杂物数量过多，则在溅射过程中可能在晶片上形成颗粒，从而导致互连线短路或断开，这将严重影响膜的性能。高纯铬靶中的大多数夹杂物是在冶炼和铸造过程中..
高纯铬靶的目标晶粒尺寸和分布：通常，目标材料具有多晶结构，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的数量级上。 对于相同组成的靶材，细颗粒靶材的溅射速率比粗颗粒高纯铬靶的溅射速率快，而晶粒尺寸..
东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产高**属材料，蒸发镀膜材料以及溅射靶材的**企业应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸发材料专业为技术依托，拥有多名中..
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